sepanduk produk
Sistem Pemeriksaan Kecacatan Substrat GaN
Sistem Pemeriksaan Kecacatan Substrat GaN
Sistem Pemeriksaan Kecacatan Substrat GaN menggunakan pemeriksaan optik tidak merosakkan untuk mengenal pasti dan mencirikan kecacatan dalam substrat galium nitrida (GaN), menyokong penilaian kualiti bahan dan pembangunan proses. Serasi dengan substrat GaN 2-, 4- dan 6-inci, sistem mengesan pelbagai kecacatan, termasuk kehelan benang, ralat susun, domain penyongsangan, sempadan butiran, lubang-V, lompang dan retak, membantu pengguna memahami jenis kecacatan dan pengedarannya merentasi substrat.

Sistem ini menawarkan suite pengesanan yang boleh disesuaikan dan boleh dikembangkan yang boleh dikonfigurasikan untuk ciri-ciri bahan tertentu dan keperluan pemeriksaan. Kerjasama pembangunan dan aplikasi bersama memperluaskan keupayaannya untuk menangani jenis kecacatan baharu dan kompleks, menyokong keperluan yang berkembang dalam penyelidikan dan pemeriksaan bahan GaN.
Tanya

Ciri-ciri

01

Tidak Memusnahkan

02

Suite Pengesanan Boleh Disesuaikan

03

R&D kolaboratif

Spesifikasi

Bahan substrat GaN
Saiz Wafer 2', 4' dan 6'
Throughput Pemeriksaan 4-6 wafer/j (2')
Jenis Kecacatan Kehelan Benang, Kerosakan Susunan, Domain Penyongsangan, Sempadan Butiran, V-pit, Tidak sah, Retak dan kecacatan lain

Contoh

Pengimejan Wafer

氮化镓示例图-1.png

Atlas Pengenalan Kecacatan Berbilang Kategori Substrat GaN

氮化镓示例图-2.png
  • Pencirian substrat GaN yang tidak merosakkan, mampu membezakan kecacatan termasuk terkehel, sesar susun, domain penyongsangan, lompang dan calar.
Dengan menyampaikan penyelesaian yang inovatif, boleh dipercayai dan berskala, kami memperkasakan industri untuk mencapai ketepatan dan kecekapan yang tiada tandingan, memacu kemajuan dalam penyelidikan dan pembuatan di seluruh dunia.
Hak Cipta © 2025 Time Tech Spectra. Hak Cipta Terpelihara.| Peta laman | Dasar Privasi