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GaN基板欠陥検査装置
GaN基板欠陥検査装置
GaN基板欠陥検査装置
GaN 基板欠陥検査システムは、非破壊光学検査を使用して窒化ガリウム (GaN) 基板の欠陥を特定および特性評価し、材料品質評価とプロセス開発をサポートします。 2、4、6 インチの GaN 基板と互換性のあるこのシステムは、貫通転位、積層欠陥、反転ドメイン、粒界、V ピット、ボイド、クラックなどのさまざまな欠陥を検出し、ユーザーが欠陥の種類と基板全体にわたる欠陥の分布を理解するのに役立ちます。
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特徴
仕様
特徴
01
非破壊的
02
カスタマイズ可能な検出スイート
03
共同研究開発
仕様
材料
Siドープ自立GaN基板
ウェーハサイズ
1×1cm、2インチ、4インチ、6インチ
検査スループット
12 WPH @ 2'
欠陥の種類
貫通転位、積層欠陥、反転ドメイン、結晶粒界、V ピット、ボイド、クラック、その他の欠陥
革新的で信頼性が高く、スケーラブルなソリューションを提供することで、業界が比類のない精度と効率を達成できるようにし、世界中の研究と製造の進歩を推進します。
製品カテゴリー
過渡吸収シリーズ
蛍光分光シリーズ
非線形光学シリーズ
ハイスピードカメラシリーズ
レーザーシリーズ
半導体光学検査シリーズ
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