banner-sản phẩm
Hệ thống kiểm tra khuyết tật bề mặt GaN
Hệ thống kiểm tra khuyết tật bề mặt GaN
Hệ thống kiểm tra khuyết tật chất nền GaN sử dụng phương pháp kiểm tra quang học không phá hủy để xác định và mô tả các khuyết tật trên chất nền gallium nitride (GaN), hỗ trợ đánh giá chất lượng vật liệu và phát triển quy trình. Tương thích với các đế GaN 2, 4 và 6 inch, hệ thống này phát hiện một loạt khuyết tật, bao gồm trật khớp ren, lỗi xếp chồng, miền đảo ngược, ranh giới hạt, hố chữ V, khoảng trống và vết nứt, giúp người dùng hiểu các loại khuyết tật và sự phân bố của chúng trên bề mặt.

Hệ thống này cung cấp bộ phát hiện có thể mở rộng, có thể tùy chỉnh, có thể được cấu hình cho các đặc tính vật liệu cụ thể và yêu cầu kiểm tra. Hợp tác phát triển và ứng dụng chung mở rộng khả năng của mình để giải quyết các loại lỗi mới và phức tạp, hỗ trợ các nhu cầu ngày càng tăng trong nghiên cứu và kiểm tra vật liệu GaN.
hỏi thăm

Đặc trưng

01

Không phá hủy

02

Bộ phát hiện có thể tùy chỉnh

03

Hợp tác R&D

Thông số kỹ thuật

Nguyên vật liệu Chất nền GaN
Kích thước bánh xốp 2', 4' và 6'
Thông lượng kiểm tra 4-6 tấm bán dẫn/giờ (2')
Các loại khuyết tật Trật khớp luồng, lỗi xếp chồng, miền đảo ngược, ranh giới hạt, hố chữ V, khoảng trống, vết nứt và các khuyết tật khác

Ví dụ

Hình ảnh wafer

氮化镓示例图-1.png

Bản đồ nhận dạng khuyết tật đa danh mục của chất nền GaN

氮化镓示例图-2.png
  • Đặc tính không phá hủy của chất nền GaN, có khả năng phân biệt các khuyết tật bao gồm sai lệch, lỗi xếp chồng, miền đảo ngược, khoảng trống và vết trầy xước.
Bằng cách cung cấp các giải pháp đổi mới, đáng tin cậy và có thể mở rộng, chúng tôi hỗ trợ các ngành đạt được độ chính xác và hiệu quả vượt trội, thúc đẩy tiến bộ trong nghiên cứu và sản xuất trên toàn thế giới.
Bản quyền © 2025 Time Tech Spectra. Mọi quyền được bảo lưu.| Sơ đồ trang web | Chính sách bảo mật