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Espectrômetro de absorção automática Y300 para wafers SiC semi-isolantes
Espectrômetro de absorção automática Y300 para wafers SiC semi-isolantes
O espectrômetro de absorção automática Y300 para wafers de SiC semi-isolantes foi projetado para controle de qualidade de produção de substratos ópticos AR. Ele integra medições de transmitância, refletância, absortância, índice de refração e neblina em um sistema, fornecendo dados confiáveis ​​para avaliar o desempenho óptico e a consistência de wafers de SiC de grau óptico. Cobrindo a faixa quase ultravioleta a visível de 370–800 nm, o Y300 acomoda wafers de 6, 8 e 12 polegadas e também suporta outros materiais transparentes, incluindo vidro, polímeros e sílica fundida.

O Y300 usa uma arquitetura sincronizada de três espectrômetros para adquirir dados de transmitância e refletância e calcular a absortância. A compensação de referência em tempo real e a calibração automática dinâmica wafer por wafer minimizam os efeitos das flutuações da fonte de luz e do desvio ambiental, proporcionando repetibilidade de medição inferior a 0,02%. A medição multiponto e a imagem full-wafer revelam variações espaciais nas propriedades ópticas, apoiando a triagem de materiais, otimização de processos e inspeção de qualidade de saída.

Para produção contínua, o Y300 combina um sistema automatizado de manuseio de wafers sem contato com um estágio de amostra horizontal, proporcionando um rendimento de aproximadamente 60 wafers por hora. Ele se integra a linhas de automação de semicondutores e suporta operação autônoma 24 horas por dia. Ao combinar caracterização óptica altamente repetível com inspeção automatizada, o Y300 ajuda os fabricantes a melhorar a consistência da qualidade e a eficiência da inspeção para substratos ópticos de AR.
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Características

01

Repetibilidade da medição: <0,02%

02

Produção: ~60 WPH

03

EFEM Sem Contato

04

Índice de refração e medição de neblina

Especificações

Materiais Substratos Ópticos de SiC; Compatível com outros materiais transparentes
Tamanhos de wafer 6', 8' e 12'
Parâmetros de Metrologia Transmitância, Refletância, Absorção, Índice de Refração e Neblina
Cobertura Espectral 370nm–800nm
Taxa de transferência de inspeção ~60 WPH
Repetibilidade <0,02%
Capacidade de digitalização Medição multiponto e imagem full-wafer

Exemplos

① Repetibilidade de medição ultra-alta: repetibilidade de absorção de wafer melhor que 0,02%

Repetibilidade de absorção de wafer
  • Em três comprimentos de onda representativos, as variações de transmitância e refletância são <0,01% e a variação de absorvância é <0,02%.
  • O sistema Y-300 supera significativamente o padrão de precisão comum da indústria de 0,1%.

② Estabilidade a longo prazo: monitoramento contínuo de 7 dias da variação da absorção

Monitoramento Contínuo de 7 Dias da Variação de Absorção
  • Um reteste periódico de 7 dias, com recarga de amostra para cada medição, mostrou variação de absortância inferior a 0,02%.
  • O Y300 oferece excelente estabilidade de medição a longo prazo e repetibilidade da amostra.
Ao fornecer soluções inovadoras, confiáveis ​​e escaláveis, capacitamos as indústrias a alcançar precisão e eficiência incomparáveis, impulsionando o progresso na pesquisa e na fabricação em todo o mundo.
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