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반절연 SiC 웨이퍼용 Y300 자동 흡수 분광계
반절연 SiC 웨이퍼용 Y300 자동 흡수 분광계
반절연 SiC 웨이퍼용 Y300 자동 흡수 분광계는 AR 광학 기판의 생산 품질 관리를 위해 설계되었습니다. 투과율, 반사율, 흡수율, 굴절률 및 헤이즈 측정을 하나의 시스템에 통합하여 광학 등급 SiC 웨이퍼의 광학 성능 및 일관성을 평가하기 위한 신뢰할 수 있는 데이터를 제공합니다. 근자외선부터 가시광선(370~800nm)까지 커버하는 Y300은 6인치, 8인치, 12인치 웨이퍼를 수용할 수 있으며 유리, 폴리머, 용융 실리카 등 기타 투명 소재도 지원합니다.

Y300은 동기화된 3분광계 아키텍처를 사용하여 투과율 및 반사율 데이터를 수집하고 흡수율을 계산합니다. 실시간 기준 보상 및 웨이퍼별 동적 자동 보정은 광원 변동 및 환경 드리프트의 영향을 최소화하여 0.02% 미만의 측정 반복성을 제공합니다. 다중 지점 측정 및 전체 웨이퍼 이미징은 광학 특성의 공간적 변화를 드러내고 재료 스크리닝, 공정 최적화 및 출고 품질 검사를 지원합니다.

지속적인 생산을 위해 Y300은 비접촉 자동 웨이퍼 처리 시스템과 수평 샘플 스테이지를 결합하여 시간당 약 60개의 웨이퍼 처리량을 제공합니다. 반도체 자동화 라인과 통합되어 24시간 무인운전을 지원합니다. 반복성이 뛰어난 광학 특성화와 자동 검사를 결합한 Y300은 제조업체가 AR 광학 기판의 품질 일관성과 검사 효율성을 향상하는 데 도움이 됩니다.
묻다

특징

01

측정 반복성: <0.02%

02

처리량: ~60WPH

03

비접촉 EFEM

04

굴절률 및 헤이즈 측정

명세서

재료 SiC 광학 기판; 다른 투명 재료와 호환 가능
웨이퍼 크기 6', 8' 및 12'
계측 매개변수 투과율, 반사율, 흡수율, 굴절률 및 헤이즈
스펙트럼 범위 370nm~800nm
검사 처리량 ~60WPH
반복성 <0.02%
스캐닝 기능 다중 지점 측정 및 전체 웨이퍼 이미징

예

① 매우 높은 측정 반복성: 웨이퍼 흡광도 반복성 0.02% 이상

웨이퍼 흡수율 반복성
  • 세 가지 대표 파장에서 투과율 및 반사율 변화는 <0.01%이고 흡수율 변화는 <0.02%입니다.
  • Y-300 시스템은 일반적인 업계 정확도 표준인 0.1%를 훨씬 능가합니다.

② 장기 안정성: 흡광도 변화에 대한 7일간 연속 모니터링

7일 연속 흡광도 변화 모니터링
  • 각 측정마다 샘플을 다시 로드하여 7일 동안 정기적으로 재시험한 결과 흡광도 변화가 0.02% 미만인 것으로 나타났습니다.
  • Y300은 탁월한 장기 측정 안정성과 샘플 반복성을 제공합니다.
혁신적이고 안정적이며 확장 가능한 솔루션을 제공함으로써 업계가 비교할 수 없는 정밀도와 효율성을 달성할 수 있도록 지원하고 전 세계적으로 연구 및 제조 분야의 발전을 주도합니다.
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