SN-9000 គឺជាប្រព័ន្ធត្រួតពិនិត្យអុបទិកដែលមិនមានការបំផ្លិចបំផ្លាញសម្រាប់ស្រទាប់ខាងក្រោម β-Ga₂O₃ និង wafers epitaxial ។ បានរចនាឡើងសម្រាប់ទាំងសម្ភារៈប្រភេទ conductive និង doped ដោយអចេតនា (UID) វារួមបញ្ចូលគ្នានូវភាពជាក់លាក់ និងប្រសិទ្ធភាពខ្ពស់ជាមួយនឹងការត្រួតពិនិត្យស្រទាប់ខាងក្រោម និង epitaxial រួមបញ្ចូលគ្នា ដើម្បីគាំទ្រដល់ការវាយតម្លៃគុណភាពសម្ភារៈ និងការបង្កើនប្រសិទ្ធភាពដំណើរការ។
សម្រាប់ការត្រួតពិនិត្យស្រទាប់ខាងក្រោម SN-9000 កំណត់ការផ្លាស់ទីលំនៅនៅទូទាំងការតំរង់ទិសគ្រីស្តាល់ជាច្រើន ក៏ដូចជាការចាត់ទុកជាមោឃៈ ការចម្លងរោគ និងកោស។ ការរកឃើញរបស់វានៃ [010] ការផ្លាស់ទីលំនៅលីនេអ៊ែរត្រូវបានឆ្លងកាត់សុពលភាពប្រឆាំងនឹង XRT ។ សម្រាប់ការត្រួតពិនិត្យ wafer epitaxial ប្រព័ន្ធចាប់យកជួរនៃពិការភាព morphological និងផ្តល់នូវការទទួលស្គាល់ពិការភាពប្ដូរតាមបំណងដើម្បីបំពេញតាមតម្រូវការអធិការកិច្ចផ្សេងគ្នា។
ជាមួយនឹងភាពត្រឹមត្រូវនៃការផ្គូផ្គងទីតាំងពិការភាព 1 μm SN-9000 អនុញ្ញាតឱ្យមានទំនាក់ទំនងច្បាស់លាស់នៃពិការភាពរវាងស្រទាប់ខាងក្រោម និងស្រទាប់ epitaxial ។ សមត្ថភាពនេះជួយអ្នកប្រើប្រាស់តាមដានការរីករាលដាលនៃពិការភាពពីស្រទាប់ខាងក្រោមទៅស្រទាប់ epitaxial ស៊ើបអង្កេតមូលហេតុឫសគល់ និងកែលម្អដំណើរការនៃស្រទាប់ខាងក្រោម និង epitaxy ។ ប្រព័ន្ធនេះមានគំរូទំហំ 1 × 1 សង់ទីម៉ែត្រ និង 2-, 4-, 6-, និង 8-inch wafers ។ សម្រាប់ wafers 2-inch ការត្រួតពិនិត្យឆ្លងកាត់លើសពី 4 wafers ក្នុងមួយម៉ោងសម្រាប់ស្រទាប់ខាងក្រោម និង 12 wafers ក្នុងមួយម៉ោងសម្រាប់ wafers epitaxial ។
សម្រាប់ការត្រួតពិនិត្យស្រទាប់ខាងក្រោម SN-9000 កំណត់ការផ្លាស់ទីលំនៅនៅទូទាំងការតំរង់ទិសគ្រីស្តាល់ជាច្រើន ក៏ដូចជាការចាត់ទុកជាមោឃៈ ការចម្លងរោគ និងកោស។ ការរកឃើញរបស់វានៃ [010] ការផ្លាស់ទីលំនៅលីនេអ៊ែរត្រូវបានឆ្លងកាត់សុពលភាពប្រឆាំងនឹង XRT ។ សម្រាប់ការត្រួតពិនិត្យ wafer epitaxial ប្រព័ន្ធចាប់យកជួរនៃពិការភាព morphological និងផ្តល់នូវការទទួលស្គាល់ពិការភាពប្ដូរតាមបំណងដើម្បីបំពេញតាមតម្រូវការអធិការកិច្ចផ្សេងគ្នា។
ជាមួយនឹងភាពត្រឹមត្រូវនៃការផ្គូផ្គងទីតាំងពិការភាព 1 μm SN-9000 អនុញ្ញាតឱ្យមានទំនាក់ទំនងច្បាស់លាស់នៃពិការភាពរវាងស្រទាប់ខាងក្រោម និងស្រទាប់ epitaxial ។ សមត្ថភាពនេះជួយអ្នកប្រើប្រាស់តាមដានការរីករាលដាលនៃពិការភាពពីស្រទាប់ខាងក្រោមទៅស្រទាប់ epitaxial ស៊ើបអង្កេតមូលហេតុឫសគល់ និងកែលម្អដំណើរការនៃស្រទាប់ខាងក្រោម និង epitaxy ។ ប្រព័ន្ធនេះមានគំរូទំហំ 1 × 1 សង់ទីម៉ែត្រ និង 2-, 4-, 6-, និង 8-inch wafers ។ សម្រាប់ wafers 2-inch ការត្រួតពិនិត្យឆ្លងកាត់លើសពី 4 wafers ក្នុងមួយម៉ោងសម្រាប់ស្រទាប់ខាងក្រោម និង 12 wafers ក្នុងមួយម៉ោងសម្រាប់ wafers epitaxial ។
សាកសួរ
