SN-9000은 β-Ga₂O₃ 기판 및 에피택셜 웨이퍼에 대한 비파괴 광학 검사 시스템입니다. 전도성 유형 및 비의도적 도핑(UID) 재료 모두를 위해 설계된 이 제품은 높은 정밀도와 효율성을 통합 기판 및 에피택셜 레이어 검사와 결합하여 재료 품질 평가 및 공정 최적화를 지원합니다.
기판 검사의 경우 SN-9000은 여러 결정 방향에 걸친 전위뿐 아니라 공극, 오염 및 긁힘도 식별합니다. 선형 전위의 검출은 XRT에 대해 교차 검증되었습니다. 에피택셜 웨이퍼 검사의 경우 시스템은 다양한 형태학적 결함을 포착하고 다양한 검사 요구 사항을 충족하기 위해 맞춤형 결함 인식 기능을 제공합니다.
1μm의 결함 위치 매칭 정확도를 갖춘 SN-9000은 기판과 에피택셜 층 사이의 결함에 대한 정확한 상관 관계를 가능하게 합니다. 이 기능은 사용자가 기판에서 에피택셜 층으로의 결함 전파를 추적하고, 근본 원인을 조사하고, 기판 및 에피택시 프로세스를 개선하는 데 도움이 됩니다. 이 시스템은 1 × 1 cm 샘플과 2, 4, 6 및 8인치 웨이퍼를 수용합니다. 2인치 웨이퍼의 경우 검사 처리량은 기판의 경우 시간당 4개의 웨이퍼, 에피택셜 웨이퍼의 경우 시간당 12개의 웨이퍼를 초과합니다.
기판 검사의 경우 SN-9000은 여러 결정 방향에 걸친 전위뿐 아니라 공극, 오염 및 긁힘도 식별합니다. 선형 전위의 검출은 XRT에 대해 교차 검증되었습니다. 에피택셜 웨이퍼 검사의 경우 시스템은 다양한 형태학적 결함을 포착하고 다양한 검사 요구 사항을 충족하기 위해 맞춤형 결함 인식 기능을 제공합니다.
1μm의 결함 위치 매칭 정확도를 갖춘 SN-9000은 기판과 에피택셜 층 사이의 결함에 대한 정확한 상관 관계를 가능하게 합니다. 이 기능은 사용자가 기판에서 에피택셜 층으로의 결함 전파를 추적하고, 근본 원인을 조사하고, 기판 및 에피택시 프로세스를 개선하는 데 도움이 됩니다. 이 시스템은 1 × 1 cm 샘플과 2, 4, 6 및 8인치 웨이퍼를 수용합니다. 2인치 웨이퍼의 경우 검사 처리량은 기판의 경우 시간당 4개의 웨이퍼, 에피택셜 웨이퍼의 경우 시간당 12개의 웨이퍼를 초과합니다.
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