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DISPEC-8000 Zerstörungsfreies 3-in-1-System zur Inspektion von Versetzungsfehlern aus SiC-Ingots/Seed/Substrat
DISPEC-8000 Zerstörungsfreies 3-in-1-System zur Inspektion von Versetzungsfehlern aus SiC-Ingots/Seed/Substrat
Das DISPEC-8000 nutzt das Pump-Probe-Reflexionsprinzip, um eine zerstörungsfreie optische Inspektion von Verbindungshalbleitermaterialien durchzuführen. Dieses System eignet sich zur Inspektion von N-Typ-SiC-Ingots, Impfkristallen und Wafern und unterstützt die Analyse von Wafern unterschiedlicher Größe. Es kann wichtige Versetzungsdefekte wie TSD, TED und BPD genau identifizieren und unterstützt gleichzeitig die Erkennung verschiedener Defekttypen, einschließlich SF, MP, Kohlenstoffeinschlüsse und Epitaxiedefekte. Darüber hinaus unterstützt es die Dual-Oberflächenanalyse sowohl der Si- als auch der C-Flächen. Im Vergleich zu automatisierten Systemen arbeitet das DISPEC-8000 im manuellen Modus, was eine größere Flexibilität bietet und es für die F&E-Validierung, Tests kleiner Chargen und verschiedene Anwendungsszenarien geeignet macht.

Im Vergleich zu herkömmlichen KOH-Ätzmethoden ermöglicht das DISPEC-8000 eine echte zerstörungsfreie Inspektion. Es unterscheidet effektiv zwischen TSD- und TED-Signalen, wobei die Prüfergebnisse in hohem Maße mit denen der XRT-Methode übereinstimmen. Während die Prüfgenauigkeit gewährleistet ist, hilft das Gerät den Benutzern, Kosten zu senken und die Effizienz bei Forschung, Entwicklung und Produktion durch einen flexibleren Betrieb und umfassendere Prüfmöglichkeiten zu verbessern, und bietet so eine zuverlässige Unterstützung für die Verbindungshalbleiter-Industriekette.
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Hauptmerkmale

  • Die optische zerstörungsfreie Prüfung ersetzt die KOH-Ätzung

  • KI-gestützte präzise Identifizierung und Klassifizierung von Fehlern wie TSD, TED, BPD, SF und MP

  • Hohe Geschwindigkeit und hoher Durchsatz zur Erfüllung der Inspektionsanforderungen für die Massenproduktion

  • Prüfgenauigkeit vergleichbar mit XRT

  • Kompatibel mit der Inspektion von Ingots und nicht standardmäßigen Impfkristallen


Herausforderungen der Branche meistern

Herkömmliche KOH-Ätzmethoden sind nicht nur destruktiv, sondern im Allgemeinen auch nicht in der Lage, genau zwischen TSD und TED zu unterscheiden, was zu einer erheblichen Unterschätzung der TSD-Dichte in SiC-Substraten führt. Durch die Kombination von zerstörungsfreier Erkennung mit KI-basierter Erkennung kann dieses Produkt TSD- und TED-Signale effektiv unterscheiden und identifizieren, wobei die Ergebnisse in hohem Maße mit XRT-Messungen übereinstimmen.


Spezifikationen

Inspektionsgeschwindigkeit~15 Min./Stück (6'); ~30 Min./Stück (8'); Barren < 1 Stunde (8')
Unterstützte InspektionsobjekteSiC-Barren, Seeds und Wafer vom N-Typ
Kompatible Probengrößen6', 8' und 12'
InspektionsfehlertypenTED, TSD, BPD, SF, MP, Kohlenstoffeinschlüsse, heterokristalline Defekte und andere Defekte
Empfohlene Funktionen

Kompatibel mit Barren/Seeds/Wafern; Kann sowohl die Si-Fläche als auch die C-Fläche prüfen; Intelligente KI-gestützte genaue Fehlererkennung und Dichteanalyse; Individuelle Fehleranalyse


Fallbeispiele

Speziell für die Erkennung kritischer Fehler in Barren entwickelt

Es erkennt schnell schwerwiegende Fehler wie SF, MP und polykristalline Strukturen nach dem Barrenwachstum. Es kann auch zum manuellen Laden von Impfkristallen oder zur Inspektion von Substratwafern verwendet werden

DIS 8000-EX-1


Hohe Konsistenz mit KOH

DIS 8000-EX-1

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