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O DISPEC-8000 utiliza o princípio de reflexão bomba-sonda para realizar inspeção óptica não destrutiva de materiais semicondutores compostos. Este sistema é adequado para inspecionar lingotes de SiC tipo N, cristais de sementes e wafers e oferece suporte à análise de wafers de vários tamanhos. Ele pode identificar com precisão os principais defeitos de deslocamento, como TSD, TED e BPD, ao mesmo tempo que oferece suporte à detecção de vários tipos de defeitos, incluindo SF, MP, inclusões de carbono e defeitos epitaxiais. Além disso, ele suporta análise de superfície dupla das faces Si e C. Comparado aos sistemas automatizados, o DISPEC-8000 opera em modo manual, oferecendo maior flexibilidade e tornando-o adequado para validação de P&D, testes de pequenos lotes e diversos cenários de aplicação.
Comparado aos métodos tradicionais de gravação com KOH, o DISPEC-8000 permite uma inspeção verdadeiramente não destrutiva. Ele distingue efetivamente entre sinais TSD e TED, com resultados de inspeção altamente consistentes com os do método XRT. Ao mesmo tempo que garante a precisão da inspeção, o dispositivo ajuda os usuários a reduzir custos e melhorar a eficiência durante a pesquisa e desenvolvimento e a produção por meio de uma operação mais flexível e recursos de inspeção mais amplos, fornecendo suporte confiável para a cadeia da indústria de semicondutores compostos. |
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DISPEC 8000
A inspeção óptica não destrutiva substitui a gravação com KOH
Identificação precisa e classificação de defeitos assistida por IA, como TSD, TED, BPD, SF e MP
Alta velocidade e alto rendimento para atender aos requisitos de inspeção de produção em massa
Precisão de inspeção comparável ao XRT
Compatível com inspeção de lingotes e cristais de sementes não padronizados
Os métodos tradicionais de gravação com KOH não são apenas destrutivos, mas também geralmente incapazes de distinguir com precisão entre TSD e TED, levando a uma grave subestimação da densidade de TSD em substratos de SiC. Ao combinar a detecção não destrutiva com o reconhecimento baseado em IA, este produto pode diferenciar e identificar eficazmente sinais TSD e TED, com resultados altamente consistentes com medições XRT.
Especificações
| Velocidade de inspeção | ~15 min/peça (6'); ~30 min/peça (8'); Lingote < 1 hora (8') |
| Objetos de inspeção suportados | Lingotes, sementes e wafers de SiC tipo N |
| Tamanhos de amostra compatíveis | 6', 8' e 12' |
| Tipos de defeitos de inspeção | TED, TSD, BPD, SF, MP, inclusões de carbono, defeitos heterocristalinos e outros defeitos |
| Funções em destaque | Compatível com lingotes/sementes/wafers; Capaz de inspecionar tanto a face Si quanto a face C; Identificação precisa de defeitos e análise de densidade assistida por IA inteligente; Análise de defeitos personalizada |
Exemplos de casos
Projetado especificamente para detectar defeitos críticos em lingotes
Ele identifica rapidamente falhas fatais, como SF, MP e estruturas policristalinas após o crescimento do lingote. Também pode ser usado para carregamento manual de cristais de sementes ou inspeção de wafer de substrato

Alta consistência com KOH
