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| UPS100 は、ポンプとプローブのビーム間の光路差変調を採用しています。高精度の遅延ラインを介してパルス遅延を調整することで、レーザー誘発損傷の進展を ps タイムスケールで捕捉し、従来のカメラの制限を克服します。 ICCD ゲート技術を使用してプラズマの時空間ダイナミクスを同時に監視します。 | |||||||||
製品概要
UPS100 は、ポンプとプローブのビーム間の光路差変調を採用しています。高精度の遅延ラインを介してパルス遅延を調整することで、レーザー誘発損傷の進展を ps タイムスケールで捕捉し、従来のカメラの制限を克服します。 ICCD ゲート技術を使用してプラズマの時空間ダイナミクスを同時に監視します。
仕様
主なテクニカル指標
| モード | 超高速光ダメージ/プラズマスパッタリング |
| タイムウィンドウ | 8ns |
| 検出器の種類 | IsCMOS(ゲート時間:3ns) |
| 検出IRF | <1.5Xパルス幅 |
| 目的 | 20X/50X選択可能 |
| サンプルの動き | 自動2D移動 |
| ソフトウェア機能 | データ収集/分析ソフトウェア |
応用


この機能は主にカメラのゲート取得機能と遅延を使用して、さまざまな瞬間のサンプルのプラズマ スパッタリング プロセスをキャプチャします。試験プロセス全体には、サンプルにレーザーを集中させてプラズマを生成することが含まれます。 この段階では、「ゲート」として機能するカメラの露光時間が設定されます。次に、レーザーがサンプルに到達する時間に対して「ゲート」を遅らせるようにタイミングが調整され、それによってプラズマ スパッタリング プロセスをさまざまな時間間隔でキャプチャします。