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| O UPS100 emprega modulação de diferença de caminho óptico entre feixes de sonda de bomba. Ao ajustar os atrasos de pulso através de linhas de atraso de precisão, ele captura a evolução dos danos induzidos por laser em escalas de tempo ps - superando as limitações convencionais da câmera. Monitora simultaneamente a dinâmica espaço-temporal do plasma usando a tecnologia de controle ICCD. | |||||||||
Visão geral dos produtos
O UPS100 emprega modulação de diferença de caminho óptico entre feixes de sonda de bomba. Ao ajustar os atrasos de pulso através de linhas de atraso de precisão, ele captura a evolução dos danos induzidos por laser em escalas de tempo ps - superando as limitações convencionais da câmera. Monitora simultaneamente a dinâmica espaço-temporal do plasma usando a tecnologia de controle ICCD.
Especificações
Principais Indicadores Técnicos
| Modo | Danos ópticos ultrarrápidos/sputtering de plasma |
| Janela de tempo | 8 ns |
| Tipo de detector | IsCMOS (tempo de porta: 3 ns) |
| Detecção IRF | <1,5X Largura de pulso |
| Objetivos | 20X/50X selecionável |
| Movimento de amostra | Movimento 2D automático |
| Funções de software | Software de aquisição/análise de dados |
Aplicativo


Esta função usa principalmente o recurso de aquisição controlada e o atraso da câmera para capturar o processo de pulverização catódica de plasma da amostra em vários momentos. Todo o processo de teste envolve focar o laser na amostra, que produz plasma. Nesta fase, o tempo de exposição da câmera é definido, funcionando como um “gate”. O tempo é então ajustado para atrasar o “gate” em relação ao tempo que o laser atinge a amostra, capturando assim o processo de pulverização catódica do plasma em diferentes intervalos de tempo.